ABN-MLM-002 有掩膜光刻機是艾博納自主研發的一款高精度微納圖案轉印設備，采用高穩定性紫外光源與優良光學系統，支持接觸式和近接式多模式曝光，適用于微米及亞微米級圖案的高保真轉印。該設備廣泛應用于科研院所及中小批量半導體制造、MEMS 微機電系統、光電子器件等微納制造領域。

有掩膜光刻機整機配置高強度汞燈或i-line/LED光源，光強密度≥50 mW/cm2，均勻性≥90%，光強穩定性±2%，確保圖案曝光穩定一致。光學系統采用準直透鏡聯合均勻化裝置和高分辨率曝光物鏡，具備≤2 μm接觸式、≤5 μm近接式的分辨能力，1:1 等倍投影精度滿足高精制程要求。

集成高倍率CCD成像系統與十字線疊加輔助對準功能，對位精度可達 ≤2 μm；搭配高精度X/Y/Z電動平臺，重復精度優于1 μm?？刂葡到y支持軟件和觸摸屏雙模式控制，曝光參數可編程設定，具備USB、RS232、Ethernet等通信接口，提升操作便捷性與系統兼容性。

此外，ABN-MLM-002 支持多種可選模塊，如自動掩膜更換系統、自動對位識別系統、真空吸附樣品臺、伺服納米級電控平臺等，為高效精密光刻工藝提供全面保障，是科研與產業橋接的重要裝備之一。